01SECTION
商标与专利
- 01实行申请在先原则,商标保护期10年(自申请日起),可无限续展,每次续展10年;续展宽限期为到期后6个月
- 02南非尚未加入马德里议定书,无法通过马德里国际注册指定南非,仅可向CIPC提交单一国家申请;内阁已于2019年批准加入议定书,但立法修正案至今未完成
- 03不支持多类申请,每个尼斯分类须单独提交;外国申请人须委托南非本地代理(需SAIIPL注册执业代理人)
- 04异议期为商标公告后3个月,可申请延期(每次延3个月);可注册类型包括文字商标、图形商标、三维立体商标、颜色组合商标、声音商标、全息图商标
- 05发明专利保护期20年(自申请日起),需逐年缴纳年费维持(自第3年起);南非采用非实审登记制(depository system),CIPC仅做形式审查,不审查新颖性与创造性,授权周期约9-15个月
- 06PCT国家阶段进入期限31个月(自最早优先权日起),可申请3个月延期;巴黎公约优先权发明12个月、外观设计6个月
- 07因非实审制,南非专利有效性需在诉讼中由法院认定,专利被宣告无效风险较高;建议同步在实审国家(如中国、EPO)获取审查报告作为有效性支撑
- 08外观设计保护期15年(外观设计法1993年),CIPC同时受理外观设计注册;商标海关备案可通过SARS海关部门申请
| 项目 | 参考周期 |
|---|---|
| 商标单一申请(1类) | 18-36个月 |
| 发明专利(登记制授权) | 9-15个月 |
| 外观设计注册 | 6-12个月 |
| PCT国家阶段进入 | 优先权日起31个月内 |
常见问题

